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     光刻工艺工程师    [2012-5-23 15:34:43]
    工作地点: 北京
    工资待遇: 面议
    招聘人数: 若干
    性别要求: 不限
    年龄要求: 24岁以上
    条件要求: 有两年半导体行业工作经验,具有Fab光刻工艺经验者优先考虑; 无经验的微电子专业大学毕业生也可以考虑。
    职位描述:

     

    基本要求                      1. 强烈的团队合作意识和经验;

    2.对半导体或微电子光刻工艺有兴趣;愿意学习接受新技术新工艺;

    3. 动手能力强;

    4. 人际沟通能力强;

    5. 勤劳刻苦。

    6. 具备独立工作能力。

    工作内容             1. 日常工作在北京合作的研究所超净实验室进行光刻胶的评估试验,评价原材料和配方的光刻性能。

    2. 会操作Track,扫描曝光机,电子显微镜等机器,懂得数据统计和分析。快速组织数据形成报告。

    3. 参与客户应急响应服务,帮助客户分析数据和产品的工艺技术指导。

    工资待遇                      1. 按北京市政府规定

    2. 税前总收入面谈。

    联系人:孙友松,sunys@htphotrom.com, 18721939594